DUV光刻系统
ASML的深紫外线（DUV）光刻系统深入紫外线谱，以打印构成微芯片基础的微小特征。
我们的沉浸式系统领导着最先进的逻辑和记忆芯片的高量制造的生产力，成像和覆盖性能。
沉浸系统
沉浸系统是该行业的工作主场。我们最新的NXT机器表明能够每天运行超过6,000晶片，平均生产率在12个月内提高5％，从而支持我们的客户的价值要求。我们继续创新沉浸系统以满足未来节点的要求，从我们的EUV计划中的研发中受益，同时确保平台通过系统节点增强程序包升级的扩展性。多亏了这些软件包，任何NXT系统都可以升级到最新技术。万博manbetx官网登录
干燥系统
芯片由彼此堆叠的许多层组成，它不一定是用于生产这些层的最新，最伟大的沉浸式光刻机器。在给定的芯片中，可能会有一个或两个复杂的层是使用EUV光刻机制造的，但其余的通常可以使用“较旧”技术（例如干燥光刻系统）打印出来。万博manbetx官网登录对于客户来说，这当然更具成本效益，因为这些旧机器的购买和维护价格较低。
继续创新
我们将继续创新200毫米和300毫米晶圆的尺寸，在双胞胎XT产品线（ARF，KRF和I-Line）中，我们的生产率，所有权成本和性能创新。随着3D NAND记忆成为主流，ASML已为所有干燥系统开发了广泛的选项组合，能够应对该技术的具体挑战，包括高剧本层堆栈和Wafer Warpage等。万博manbetx官网登录
在2016年，由于物联网，汽车和工业市场的强劲增长，我们引入了Twinscan XT扫描仪的200 mm版本，这不仅有助于增加客户晶圆厂的产量，而且还用于替换老化的光刻设备，以替代老化的光刻设备。现有的200毫米晶圆厂。
