DUV光刻系统

半导体行业工作人员

阿斯麦公司的深紫外光(DUV)光刻系统可以深入紫外光光谱,打印出构成微芯片基础的微小特征。

我们的沉浸式系统在生产力、成像和覆盖性能方面领先行业,为最先进的逻辑和存储芯片的大批量制造。

浸没系统

浸没系统是该行业的职位。我们最新的NXT机器已经显示出每天超过6,000条晶圆的能力,平均生产力增加超过12个月,支持客户的价值要求。我们继续创新我们的浸没系统,以满足未来节点的要求,从R&D的共同性与我们的EUV计划中受益,同时通过系统节点增强包升级来确保平台的可扩展性。由于这些软件包,任何NXT系统都可以升级到最新技术。万博manbetx官网登录

干燥系统

芯片是由许多层叠加而成的,用来制造这些层的不一定是最新最好的浸没式光刻机。在一个给定的芯片中,可能会有一个或两个更复杂的层是使用EUV光刻机制作的,但其余的通常可以使用“旧的”技术如干光刻系统来打印。万博manbetx官网登录这对客户来说无疑是更划算的,因为这些旧机器的购买和维护成本更低。

继续创新

我们继续在Twinscan XT产品线(ARF,KRF和I-LINE)上的生产力,所有权和性能成本,适用于200 mm和300 mm晶圆尺寸。通过3D NAND记忆成为主流,ASML已经为所有干燥系统开发了广泛的选项,能够解决这项技术的具体挑战,包括高地形层堆栈和晶圆翘曲等。万博manbetx官网登录

2016年,由于物联网、汽车和工业市场的强劲增长,我们推出了一款200mm版本的双扫描XT扫描仪,这不仅有助于增加客户晶圆厂的产量,还用于取代现有的200mm晶圆厂老化的光刻设备。

ASML洁净室组装