Duv光刻系统

ASML的深紫色(DUV)光刻系统深入浏览UV光谱,以打印形成微芯片基础的微小功能。

我们的浸没系统引领行业生产力,成像和覆盖性能,为最先进的逻辑和内存芯片的大批量生产。

浸没系统

浸没系统是该行业的职位。我们最新的NXT机器已经显示出每天超过6,000条晶圆的能力,平均生产力增加超过12个月,支持客户的价值要求。我们继续创新我们的浸没系统,以满足未来节点的要求,从R&D的共同性与我们的EUV计划中受益,同时通过系统节点增强包升级来确保平台的可扩展性。由于这些软件包,任何NXT系统都可以升级到最新技术。万博manbetx官网登录

干燥系统

芯片由彼此叠加的许多层组成,并且不一定是用于生产这些层的最新和最大的浸没光刻机。在给定芯片中,可以使用EUV光刻机制造的一个或两个更复杂的层,但是可以使用诸如干燥光刻系统的“较旧”技术来打印其余的静止。万博manbetx官网登录这对客户来说肯定更具成本效益,因为这些较旧的机器较便宜购买和维护。

继续创新

我们继续在Twinscan XT产品线(ARF,KRF和I-LINE)上的生产力,所有权和性能成本,适用于200 mm和300 mm晶圆尺寸。通过3D NAND记忆成为主流,ASML已经为所有干燥系统开发了广泛的选项,能够解决这项技术的具体挑战,包括高地形层堆栈和晶圆翘曲等。万博manbetx官网登录

2016年,由于IOT,汽车和工业市场的强劲增长,我们介绍了200毫米版的Twinscan XT扫描仪,这不仅有助于增加客户Fab的输出,而且还用于更换老化光刻设备现有的200毫米Fab。

ASML洁净室组装