Twinscan NXT：2000i
Twinscan NXT：2000i提供了出色的覆盖，焦点控制和交叉匹配，用于高级逻辑和DRAM节点的大量制造。
193 nm
ARF光源
≤38nm
解析度
1.35 NA
投影光学
≥275
每小时晶圆
关键功能和好处
Twinscan NXT：2000i是一种高生产率，双阶段浸入式光刻工具，旨在在高级节点的体积生产300毫米晶片。
该系统配备了在线catadioptric镜头设计，数值（NA）为1.35，是行业中最高的。
该系统还包括用于改进覆盖，焦点控制和交叉匹配的硬件创新。
它的模块化设计旨在与EUV混合使用，可从前几代升级，并在将来继续升级。
01.生产力
Twinscan NXT：2000I具有较高的生产率，缺陷降低。该系统的冠军生产率目前为每天4,600瓦夫，这一成就通过提供可选的应用程序，使系统能够优化扫描仪晶圆处理时间并减少特定用例的开销。
该系统显示出有史以来最快的坡道到成熟度，在短短2个月内可靠性达到150小时（相比上一代6个月）。
02.光学
Twinscan NXT：2000i包括1.35 Na 193 nm catadioptric投影镜头，可以将生产分辨率降至40 nm（c-Quad）和38 nm（偶极）和在线设计，并提供支持完整的26 x 33 mm场尺寸，4倍，4倍与现有设计的降低和标线兼容性。
弹性准备的照明器扩展了常规和离轴照明的范围，以使高级瞳孔成型用于低K1成像。
03.成像性能
NXT：2000i可以实现2.5 nm的交叉匹配外生产叠加层。新的Orion Alignment Sensor提供了更准确的对齐测量值和增强的过程鲁棒性，以更好地覆盖性能。
此外，新的Ultraviolet级传感器标记2（UVLS-2）提供了更准确的平衡测量，以改善成像性能。
最后，改进了晶圆桌平坦，耐力和夹紧机制，可以增强系统与EUV的匹配。
