计算光刻
ASML的行业领先的计算光刻产品实现了准确的光刻模拟，有助于提高芯片产量和质量
作为ASML产品组合的一部分，我们开发了计算光刻学，以在纳米级工作时提供客户的生产收益率和性能。
没有计算光刻，芯片制造商将不可能制造最新的技术节点。万博manbetx官网登录
尺度越小，问题越大
在光刻期间，光敏感层中的衍射以及物理和化学效果变形了机器试图打印的图像（认为这是试图用宽阔的水彩画刷画一条细的细线地方）。
随着130 nm技术的引入，解决这些变形对于防止缺陷至关重要。万博manbetx官网登录随着芯片制造商继续缩小模式，使小芯片越来越强大，问题和复杂性不断升级，需要更加复杂的方法。
模型制造
计算光刻使用制造过程的算法模型，并用我们的机器和测试晶片的关键数据进行校准。这些模型用于通过故意变形图案来补偿光刻和图案过程中发生的物理和化学效应，以优化所需最终结果的面膜或蓝图。最终结果：我们最终获得了晶圆上所需的芯片图案的准确复制品。
计算能力
尽管其他人看上去“上游”朝着芯片设计，而ASML则看上去“下游”，以区分我们的市场地位。计算光刻不仅对世界半导体设备的持续扩展有助于，而且对机器的性能不断提高。
我们的计算光刻技术在设计和技术开发的早期以及后来的大量生产方面优化了扫描仪，掩盖和工艺的设备可制造性和产量。万博manbetx官网登录
超越摩尔定律
随着技万博manbetx官网登录术的进步和晶圆模式的缩小，我们模型中准确性的要求增加了。如今，在大批量制造中，我们将成像功能降至单纳米级，并具有（对于简单的1D功能）子纳米计精度要求。
展望未来，计算光刻将继续在改善机器的成像性能中起着必不可少的作用，从而使我们能够继续推动摩尔的法律向前发展。
整体印刷
我们将计算的力量从单独的光刻扩展到光学计量学和电子束检查以及机器学习应用。我们继续开发建模和校正软件套件，以将我们的计量和检查系统与光刻系统联系起来，从而利用我们在这两个领域的专业知识。
