计算光刻

打印你想打印的东西

ASML的行业领先的计算光刻产品可实现精确的光刻模拟,有助于提高芯片产量和质量

我们开发了计算光刻作为我们ASML产品组合的一部分,为客户在纳米级工作时提供生产率和性能。

没有计算光刻,ChipMakers无法制造最新的技术节点是不可能的。万博manbetx官网登录

规模越小,问题越大

在平版印刷过程中,光的衍射以及光敏层中的物理和化学效应会使机器试图打印的图像变形(想象一下这就像用一个宽的水彩画笔画出一条细细的细线——它会在许多地方弄脏)。

随着引入130纳米技术,解决这些变形是必不可少的,以防止缺陷。万博manbetx官网登录由于芯片制造商继续缩小图案,以制造小而更强大的芯片,因此问题和复杂性升级,需要更复杂的方法。

模型制造

计算光刻使用制造过程的算法模型,用来自我们的机器的关键数据和测试晶片校准。这些模型用于通过有意地使图案变形以补偿在光刻和图案化期间发生的物理和化学效果来优化所需最终结果的掩模或蓝图。网络结果:我们最终通过晶片上的所需芯片图案的准确复制品。

47135 -光刻元素

计算权力

而其他人看起来对芯片设计的“上游”,ASML看起来“下游”,以区分我们的市场地位。计算光刻不仅有助于世界半导体器件的持续扩展,而且还用于我们的机器的越来越多的性能。

我们的计算光刻技术优化了扫描仪,掩模和工艺,用于设备可制造性和产量,早期设计和技术开发,后来在高批量生产中。万博manbetx官网登录

超越摩尔定律

随着技万博manbetx官网登录术的进步和晶圆模式缩小,我们模型中准确性的要求增加。今天,在大批量制造中,我们将成像功能降至单纳米级,(用于简单的1D特征)子纳米纳米精度要求。

展望未来,计算光刻技术将继续在提高我们机器的成像性能方面发挥不可或缺的作用,使我们能够继续推动摩尔定律向前发展。

整体印刷

我们从单独的光刻扩展到光学计量和电子束检查,以及机器学习应用。我们继续开发建模和校正软件套件,以将我们的计量和检测系统与光刻系统联系起来,利用我们在两个领域的专业知识。