EUV光刻系统

使用EUV Light，我们的NXE系统提供高分辨率光刻，并使世界上最先进的微芯片成为可能

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ASML的Extremulaviolet（EUV）光刻技术使用仅13.5 nm（几乎X射线范围）的波长可以在很小的规模上做大事。万博manbetx官网登录EUV推动了摩尔的法律前进，并支持新颖的晶体管设计和芯片体系结构。

质量生产前沿微芯片

如果您拥有相对较新的智能手机，是最新的游戏机之一或智能手表，则很可能直接从EUV光刻技术中受益。万博manbetx官网登录

领先的微芯片包含数十亿个晶体管。每一代新一代（通常称为“节点”），Chipmakers越来越多地包装，并且晶体管更加微妙，以使芯片更强大，更快，更节能。

使用13.5 nm的波长，我们的EUV系统在微芯片上进行了最好的线条。它们用于大批量制造中，以创建最先进的微芯片（7 nm，5 nm和3 nm节点）的高度复杂的基础层。

驾驶负担得起的缩放

使用EUV可以使芯片制造商更负担得起，并允许半导体行业继续追求摩尔法律。EUV系统用于在芯片上打印最复杂的层，其余的层使用各种DUV系统打印。两种类型的技术都将在未来很多万博manbetx官网登录年并行并行，我们将继续推进这两种技术。

EUV光刻系统组合

Twinscan NXE：3600D

Twinscan NXE：3600D目前是ASML最先进的光刻系统，支持5和3 nm逻辑节点和前沿DRAM节点的体积生产。

Twinscan NXE：3400C

Twinscan NXE：3400C光刻系统支持7和5 nm节点的体积生产。

通往EUV的道路

EUV技万博manbetx官网登录术花了二十年的时间来开发

Engineering EUV绝非简单。ASML在17年内向EUV研发投资了超过60亿欧元。我们收购了一家专门从事光源技术的公司，以加速万博苹果手机客户端EUV来源开发。万博manbetx官网登录一旦技术开发，我们就必须克万博manbetx官网登录服许多技术挑战，以满足芯片制造商对大批量制造的要求。

如何发展EUV光刻

研究人员和科学家首先开始探索1980年代的EUV光刻，这项新技术的首次成功应用于十年末。万博manbetx官网登录

将这项技术化于1994年开始的工业化工作，由半导体行万博manbetx官网登录业公司（包括ASML）组成的联盟提供了第一个原型。该原型证明了EUV光刻是可能的，该行业开始追求该技术。万博manbetx官网登录

但是EUV是一个充满挑战和昂贵的追求，随着时间的推移，ASML（我们的合作伙伴和供应商）继续致力于可行的系统。2006年8月，我们将世界上第一个EUV光刻演示工具运送到了美国奥尔巴尼，美国奥尔巴尼的纳米级科学与工程学院，并在比利时鲁南的IMEC上运送到了IMEC。学院和公司使用这些原型来了解EU万博苹果手机客户端V以及它如何适合半导体制造过程。

尽管在2008年发生了全球金融危机，但我们仍继续投资于EUV。2008年春季，纳米级科学与工程学院使用其演示工具来生产世界上第一个全场EUV测试芯片。在2009年，我们开设了建筑物，这些建筑物将在荷兰的Veldhoven总部设置清洁室和工作空间，用于开发和生产。

然后，在2010年，第一个Twinscan NXE：3100（预生产EUV系统）被运送到我们的主要客户之一。两年后，另外六个系统被运送到不同的客户。第一个EUV生产系统 - Twinscan NXE：3300 - 于2013年发货，这标志着这项新技术的开发又一步。万博manbetx官网登录

尽管存在延误和困难，但EUV光刻在2016年转弯。客户开始订购NXE：3400的数量更高。2020年初，我们庆祝了第100届EUV系统装运。

EUV NXE之后的下一步是什么？达到高NA

为了实现芯片制造业的进一步创新，我们正在开发下一代EUV平台，该平台将数值孔径（NA）从0.33增加到0.55（“高NA”）。

高NA平台称为“ EXE”，具有新颖的光学设计，并且明显更快的晶圆和标线阶段。它将在接下来的十年中使几何芯片能够很好地扩展。EXE平台已设计为启用多个将来的节点，从2 nm逻辑节点开始，然后以相似密度的内存节点。

此下一代平台的开发正在加速，预计将在2023年底进行研发目的，将高NA系统的第一货物发货。EXE高容量制造系统预计将通过客户工厂全面运营2025。