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光刻技术——利用光在硅上打印微小图案——是大规模生产微芯片的基本步骤

作为半导体行业的创新领导者,自1984年以来,ASML的光刻解决方案在如此小的规模上取得了巨大的飞跃。在我们的技术中,硬件与软件相结合,为大规模生产硅上的图案提供了一种整体的方法。万博manbetx官网登录

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微芯片有很多名字:集成电路,半导体芯片,计算机芯片,或者最简单的,芯片。不管你怎么称呼它们,这些微小的硅都是数字世界的基础。它们使我们的智能手机、汽车、医疗设备和其他许多现在常见的设备成为可能——它们越小,我们在日常生活中认识到的技术就越先进。它们可能很小,但其影响是巨大的。万博manbetx官网登录


了解芯片
透过DUV镜头看到的晶圆特写。

光刻原理

光刻系统本质上是投影系统。光通过将要打印的图案的蓝图投射(称为“掩模”或“十字线”)。蓝图比芯片上的预期图案大四倍。当图案被编码在光中时,系统的光学元件会收缩并将图案聚焦到感光硅片上。在图案被打印之后,系统稍微移动晶圆并在晶圆上制作另一个拷贝。


这个过程重复进行,直到晶圆被图案覆盖,完成晶圆芯片的一层。为了制作一个完整的微芯片,这个过程将重复100次或更多次,将图案放在图案之上。要打印的特征的大小因层而异,这意味着不同类型的光刻系统用于不同的层-从我们最新一代的EUV系统用于最小的特征到旧的DUV系统用于最大的特征。


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软件

如果我们的硬件创新是蝙蝠侠,那么软件就是它的知更鸟。尽管你可能知道ASML是一家硬件公司,但实际上我们拥有世界上最大、最具开拓性的软件社区之一。如果没有我们开发的软件,我们的光刻系统不可能以如此小的尺寸制造芯片。因此,我们的光刻系统现万博苹果手机客户端在是高科技硬件和先进软件的混合体。我们的开发团队致力于一系列编码实践,为影响电子行业核心芯片制造系统的复杂问题提供创新解决方案。


了解软件
黑色背景上的彩色代码行。