ASML Twinscan NXT:1980DI DUV光刻机器

Twinscan NXT:1980DI

TWINSCAN NXT:1980DI在高级节点的高级节点上具有高生产率和可靠性,全球系统正常运行时间> 97%。

193 nm

ARF光源

≤38nm

解析度

1.35 NA

投影光学

≥275

每小时晶圆

关键功能和好处

像Twinscan NXT:2000i一样,此步进和扫描系统是一种高生产率,双阶段浸入式光刻工具,旨在在高级节点的体积生产300毫米晶片。

通过将高生产率和出色的图像分辨率与前所未有的覆盖层和焦点性能相结合,Twinscan NXT:1980DI解决了多种模式要求,从而为我们的客户提供了针对高级节点的成本效益解决方案。

01.生产力

在该系统中,新型的气体寿命扩展减少了机器的停机时间,并增强了6 kHz ARF激光技术,以提供高功率来支持高通量。万博manbetx官网登录浸入式引擎盖设计改进扩大了窗口,以使用低接触角来优化缺陷,而无需面漆。

连同Twinscan NXT:1980DI维护调度程序一起,全面的服务包通过利用系统空闲时间来执行所需的常规维护,从而优化了系统的可用性。


02.光学

Twinscan NXT:1980DI包括1.35 Na 193 nm catadioptric投影镜头,可以将生产分辨率降至40 nm(C-Quad)和38 nm(偶极子)和在线设计,并提供支持完整26 x 33 mm场尺寸,4倍,4 x与现有设计的降低和标线兼容性。

镜头元素配备了操纵器以校正光学畸变,从而为低K1应用提供了最大的生产率。弹性准备的照明器可以通过扩展常规和离轴照明的范围来最大程度的灵活性,从而使高级瞳孔成型用于低K1成像。


03.成像性能

NXT:1980DI可以实现A≤1.6nm的单机器(专用Chuck)全磁盘覆盖层,并且A≤2.5nm匹配的机器(参考晶圆)全粘合覆盖层,这要归功于重新覆盖层和晶圆载荷网格,以及对网格设置和布局依赖性网格校准的改进。这些改进还可以更好地控制重点控制。

该系统的平行ILIAS(PARIS)传感器使客户可以在整个投影缝隙中对光差进行并行测量,从而使更准确的对齐,改进的标线加热校正和在线透镜加热校正。

最后,一尘不染的2个晶圆桌清洁系统会自动清洁由曝光量颗粒引起的过多的聚焦点,而无需操作员的干预。