瑞利标准

分辨率方程式,该方程式可以打印芯片上的特征的小小

cd = k1 • λ / NA

瑞利标准方程

在瑞利标准方程中,光盘是个关键维度,或最小的功能大小,并且λ是个波长使用的光。


NA是个数值光圈在光学器件中,定义了它们可以收集多少光。


最后,k1(或者k1因素)系数取决于与芯片制造过程有关的许多因素。物理极限光刻是k1= 0.25。

通过使用较小的光波长和较大的数值光圈(NA),可以实现较小的临界维度,同时推动K1尽可能接近物理极限。


小的极限

半导体行业的大部分研发都集中在降低临界维度上。ASML的光刻机器以极高的分辨率打印,帮助芯片制造商进一步降低了这一临界维度。


更先进的微芯片意味着较小的特征,需要较短的光波长,更强大的镜头和 /或较低的K1因素。降低光波长是一种主要的技术转变,需要具有新光源的新光刻机器以及新的(光学和抗性)材万博manbetx官网登录料和新工艺。但这也带来了芯片性能方面最大的进步。


在这些波长步骤之间,行业的进展是由镜头发展和减少k1通过巧妙的调整到光刻过程和技术(例如计算光刻。

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