Twinscan XT：400L
TWINSCAN XT：400L是ASML的最新一代I线光刻系统，使用汞蒸气灯将功能降至220 nm。
365 nm
汞蒸气光源
≤350
分辨率（NM）
0.65 Na
投影镜头
≥230
每小时晶圆
关键功能和好处
除了提高生产率外，XT：400L还引入了新的选项，以帮助具有高地形（例如3D-NAND）和小CD和CDU（例如逻辑或模拟应用中的关键层）的高级应用程序。
就像以前的型号一样，XT：400L是一种双阶段光刻系统，旨在量产生200毫米和300毫米晶片的体积，至220 nm的分辨率。
高吞吐量和产量与快速的标线交换时间和批次流相结合，以提供最低的操作成本。
01.生产力
TWINSCAN XT：400L能够达到每小时≥230300毫米晶片的吞吐量（使用高分辨率选项≥220），每小时≥250200毫米瓦金蛋白。借助桥梁工具，客户能够在不到一周的机器停机时间内转换200毫米至300毫米的晶圆。
02.光学
Twinscan XT：400L包含带有高级透镜操纵器和成像增强选项的可变0.65 Na 365 nm投影镜头。客户可以实现350 nm（标准），280 nm（环形照明）或220 nm（环形照明以及高分辨率选项）的生产分辨率。
03.成像性能
使用TOP-2，XT：400能够为高级应用（例如3D-NAND楼梯暴露）实现改进的≤20nm的覆盖层。扩展的水平范围可以使更好的外产品叠加层和聚焦性能，即使对于大拓扑情况。
使用不透明的硬面膜，使用两个附加的对齐波长（近红外和红色和绿色）时，SMASH传感器可以实现更健壮的标记积分。
水平传感器与双胞胎平整方法结合使用，实际上消除了内部模具和边缘模具之间的差异，并确保整个300毫米晶圆的高产。客户可以实现350 nm（标准），280 nm（环形照明）或220 nm（环形照明以及高分辨率选项）的生产分辨率。
