ASML Twinscan XT:1060K DUV光刻机器

Twinscan XT:1060K

Twinscan XT:1060K是ASML最先进的KRF(K氟化物)激光“干”光刻系统。

248 nm

KRF光源

≤80nm

解析度

0.93 Na

投影镜头

≥205

每小时晶圆

关键功能和好处

Twinscan XT:1060K 248 nm的踏时和扫描系统是一种双阶段光刻工具,具有最高的NA和行业生产率,设计为300毫米晶圆制作。eXTEDING关键的KRF技术可降低我们的客万博manbetx官网登录户每层成本,同时使他们从成熟的KRF处理中受益。

XT:1060K是在2 nm技术节点及以后的金属,VIA和植入层的理想选择,无论是在内存和逻辑应用中。万博manbetx官网登录

此外,我们还提供了与其他Twinscan KRF系统的成像匹配,并与Twinscan ARF和KRF Systems的出色覆盖层匹配,从而在高容量制造环境中实现无缝集成。

01.生产力

具有可变频率控制的高度线扣为40 W KRF激光器,结合光学系统的高光学传输,可提供≥205300毫米晶片的生产吞吐量,并且可能的运行成本最低。


02.光学

带有高级镜头操纵器的串联曲局透镜设计可支持整个26 x 33毫米田,降低4倍和与现有折射设计的标线兼容性。天线照明器可实现连续变化的常规和离轴照明,扩展变焦可保持较高的吞吐量。


03.成像性能

XT:1060K配备了最新的覆盖改进,使客户可以实现专用的Chuck覆盖≤3.5nm(完整的晶圆)和匹配的机器覆盖≤5nm(Full Wafer)。
它的岩性ILIAS允许对成像参数进行非常精确的系统设置和复杂的监视。