ASML Twinscan XT:1460K DUV光刻机器

Twinscan XT:1460k

Twinscan XT:1460K是一种高生产率干燥的ARF光刻工具,具有出色的叠加层和成像性能,可在65 nm分辨率下进行体积生产。

193 nm

ARF光源

≤65nm

解析度

0.93 Na

投影镜头

≥205

每小时晶圆

关键功能和好处

Twinscan XT:1460K 193 nm的步进和扫描系统是一种高生产率,双阶段ARF光刻工具,旨在以65 nm分辨率的300毫米晶片生产卷。Twinscan XT:1460K包含带有高级透镜操纵剂的可变0.93 Na 193 nm投影镜头。

Twinscan平台的双晶片阶段技术使一个万博manbetx官网登录晶圆的曝光和下一个晶圆的对齐能够并行进行,实际上消除了开销时间,并允许对晶圆的连续图案,以最大程度地生产率。

该工具提供出色的CD统一性,行业领先的覆盖层和长期性能稳定性。

01.生产力

具有可变频率控制的标准交付的45 W ARF激光器,结合完整系统的高光学传输,可提供205 wph的生产吞吐量(300毫米晶片)。


02.光学

Twinscan XT:1460K系统结合了可变0.65–0.93 Na Carl Zeiss Starlith 4X降低4倍镜头的成像能力,并使用空中P照明器技术,将ARF技术扩展到65 nm技术节点。万博manbetx官网登录


03.成像性能

该系统可以通过极化照明实现低至57 nm的生产分辨率。配备了最新的覆盖改进,Twinscan XT:1460K可以实现专用的Chuck覆盖≤3.5nm,并且安装了顶部XT:1460K包装的匹配的机器覆盖为≤5nm。

离线级别系统可确保超越整个晶圆的焦点控制,包括边缘模具。该工具准备以极端低的K1值运行,提供出色的CD均匀性,行业领先的覆盖层和长期性能稳定性。