ASML Twinscan NXT:1970CI DUV光刻机器

Twinscan NXT:1970CI

Twinscan NXT:1970CI使用双阶段概念提供了高生产率和出色的图像分辨率。

193 nm

Arfi光源

≤38nm

解析度

1.35 NA

投影光学

≥250

每小时晶圆

关键功能和好处

TWINSCAN NXT:1970CI的步进和扫描系统是一种高生产率的双阶段浸入式光刻工具,旨在在成熟节点的体积生产300毫米晶片。

通过将高生产率和出色的图像分辨率相结合,Twinscan NXT:1970CI解决了双重和多种模式要求,为我们的客户提供了具有成本效益的解决方案。

01.生产力

在该系统中,新型的气体寿命扩展减少了机器的停机时间,并增强了6 kHz ARF激光技术,以提供高功率来支持高通量。万博manbetx官网登录浸入式引擎盖设计改进扩大了窗口,以使用低接触角来优化缺陷,而无需面漆。

连同Twinscan NXT:1970CI维护调度程序,全面的服务包通过利用系统空闲时间来执行所需的常规维护,从而优化了系统的可用性。


Twinscan NXT:1970CI平面双阶段的刚度增加的速度增加了速度和加速度,从而使速度更快。

加上更快的Chuck交换新设计为生产力提供了重要一步。此外,严格关注可维修性已导致设计可在需要时易于访问的设计。


02.光学

Twinscan NXT:1970CI包括1.35 NA 193 nm catadioptric投影镜头,可以将生产分辨率降至40 nm(C-Quad)和38 nm(偶极子)和在线设计,并提供支持完整的26 x 33 mm场尺寸,4 x与现有设计的降低和标线兼容性。

镜头元素配备了操纵器以校正光学畸变,从而为低K1应用提供了最大的生产率。弹性准备的照明器可以通过扩展常规和离轴照明的范围来最大程度的灵活性,从而使高级瞳孔成型用于低K1成像。


03.成像性能

NXT:1970CI可以实现A≤2.0nm的单机光(专用Chuck)全磁盘覆盖层,A≤3.5nm匹配的机器(参考晶圆)全玻璃覆盖层。

该系统的平行ILIAS(PARIS)传感器使客户可以在整个投影缝隙中对光差进行并行测量,从而使更准确的对齐,改进的标线加热校正和在线透镜加热校正。