Fardstar 1385h

Fardstar 1385

快速,准确的光学计量学对设备覆盖的光学计量层,用于蚀刻后过程监测

关键功能和好处

FARDSTAR 1385是一种独立的光学晶圆计量系统,用于硅晶片的后叠加叠加层测量,使芯片制造商可以监视其整个半导体制造过程的性能。


Fardstar 1385比扫描电子显微镜(SEM)解决方案快得多,从而降低了所有权的成本计量学。新颖的数据科学技术用于以纳米级的精度提取设备内覆盖测量值。设备测量能力允许非常高的采样密度,可以使高级蚀刻后过程控制回路提高覆盖性能和产量。


该系统可以通过设备芯片特征或嵌入芯片设计中的小型计量目标立即测量多层。它的快速测量时间使芯片制造商可以测量更多的晶片和每个晶片的表面,以更好地了解生产过程的性能。集成到该系统中的高级机器学习技术可确保准确的测量,同万博manbetx官网登录时对所有条件下的其他堆栈变化不敏感。