材料与它有什么关系？
与EUV光学的先驱，优化收藏家寿命
5分钟阅读 -凯特·布伦顿（Kate Brunton），2022年10月20日
Antoine Kempen在ASML的14年职业生涯中，材料科学专业知识多次派上用场。自2008年加入该公司以系统工程师的万博苹果手机客户端身份加入该公司以来，Antoine为EUV做出了重大贡献（极端紫外线）光刻源光学和锡管理以及DUV（深紫外线）晶圆表寿命。他目前在25个ASML专利家庭中拥有16项美国专利。
无名英雄
化学和材料科学在ASML上可能是鲜为人知的专业领域，即使它们是对半导体行业变得越来越重要一般来说。“ ASML是关于力学，机电学，物理和光学的传统，” Antoine说。“这就是公司的心脏所在 - 但是为了制造所有这些，您需要材料，万博苹果手机客户端从而了解化学和材料科学的知识。”
Antoine指出，化学和材料科学有时被视为问题的来源，而不是解决方案。他承认：“是的，他们偶尔会引起问题。”“如果您遇到了零件过早磨损的问题，您可以说，‘好吧，材料不好”。但是它们也越来越成为解决方案的一部分。我很荣幸能成为ASML的第一个具有材料科学背景的研究员。”
荷兰人成长
安托万（Antoine）在荷兰的心脏地带在奶牛场长大tu delft，在1997年获得硕士学位。他于2001年从德国斯图加特的Max Planck Institute获得博士学位，然后来到了Brainport Eindhoven，在那里他在荷兰应用科学研究组织（TNO）工作了7年，然后加入ASML。他于2022年6月在年度中被任命为一名研究员ASML技万博manbetx官网登录术会议，世界上最大的开发人员活动。
战斗污染和腐蚀
安托万（Antoine）在ASML的大部分职业生涯都致力于我们的光学系统的清洁度。EUV光学对他提出了令人兴奋的挑战，他遇到了“以许多不同的污染机制的形式出现了许多惊喜”。
ASML Antoine Kempen
ASML的光刻计算机使用紫外线在构成微芯片基础的硅晶片上“打印”图案。在我们的EUV机器中，以一种特殊的方式生成光：通过将激光脉冲在锡液滴上发射以使其蒸发成发射EUV光的等离子体。
但是，血浆很容易损坏材料，并且光刻机器中的光学组件非常敏感。例如，最接近等离子体的组件是收集器镜。只有一小段距离和一点点氢气将收集器与被汽化的锡液滴分开，并且收集器只能被污染的几纳米损坏。
“我们一直在寻找对这种情况有抵抗力的材料，” Antoine说。“包括锡在内的液体金属对几乎所有其他材料都有害，并且结合了几乎无法处理的氢等离子体。”
Antoine帮助创建了EUV清洁度的规格和要求，以改善光学元素的寿命。这是他在250 W EUV来源的锡管理和收藏家一生中的工作，他认为这是他在ASML上最重要的成就。但是，他承认自己很难说。“我们所有人都在团队中工作，因此通常是集体努力来达到解决方案。”
寻找漏洞
2018年，在250 W EUV来源的开发期间，ASML遇到了一个大问题。安托万回忆说：“每次操作几个小时后，收藏家都会开始非常快速地降解，没人能弄清楚为什么。”“这是一个很大的升级。我们无法解决。我们每天与[ASML CTO] Martin van den Brink和一支来自大海的大型团队参加会议，这对许多人来说是一种高压力的情况。”
EUV光是通过蒸发锡液滴而产生的，并由源容器底部的收集镜聚焦。
光源的所有方面都被认为是造成罪魁祸首：加热，等离子体，机电一体化，气流等。最后，在发现收藏家在某些条件下表现更好后，团队意识到这一直是化学问题。
解决问题意味着扭转他们的设计方法。该团队没有寻找在光源中存在的条件下可行的材料，而是对源条件进行了调整，以使其与收集器中的材料更兼容。化学不再是事后头痛的原因 - 它在系统设计中起着重要作用。
ASML系统工程负责人Jan Van Vlerken在颁奖典礼上说：“ Antoine的工作对于理解和建模问题背后的身体现象至关重要。”“这导致了EUV源收藏家寿命的巨大改善。”
新的DUV挑战
在这项成就之后，安托万（Antoine）觉得是时候继续进行其他事情了，因此他将重点转移到了Duv Wafer桌子上的涂料上。“为什么要杜夫晶圆桌？好吧，这是ASML当时面临的最大挑战之一，鉴于我的背景，我认为可以提供帮助。”
众所周知，DUV晶圆桌子会降解。“当我到达该项目时，我发现有一种涂层并未真正针对用例进行优化，” Antoine说。“所以我开始制作路线图。我们遇到了晶圆耐磨和腐蚀问题，我知道两者都可以通过优化这种涂层来解决 - 但前提是我们可以将涂层适合该问题足够特定。”他和团队开发了腐蚀和耐磨涂料，取得了令人鼓舞的效果。“这些新涂料，加上将涂料恢复到新州的服务动作的开发，确实帮助我们摆脱了树林。”
他的经理RenéOesterholt说：“ Antoine在寻找和理解由电化学磨损和定义相应解决方案引起的主要降解机制方面发挥了重要作用。
技术技术高级副总裁Jos Benschop在202万博manbetx官网登录2年ASML技术会议上呈现Antoine作为新研究员。
保持轻度
根据安托万的说法，幽默是压力的解毒剂。他说：“我发现保持光线非常重要。”“我们都在工作中承受压力，但是如果您可以通过幽默来保持情感上的脱离，那么可以更快地提出解决方案的想法。
他继续说：“这就是我喜欢这家公司的原因。”万博苹果手机客户端“我们一起工作，好像我们在操场上一样，但同时做认真的事情。”
安托万（Antoine）建议他的受训者努力争取工作与生活的平衡。“每天花太多小时的工作对任何人都不好。特别是如果您处于需要发挥创造力的角色。您需要有时间在后台进行处理，因此拥有不需要认为完美的爱好。”安托万（Antoine）的首选爱好是骑自行车 - “我认为是荷兰每个人的最常见爱好。”
化学和材料科学在ASML的许多领域中起作用，包括抵抗工程，颗粒的发展和污染控制。想加入我们的团队吗？查看全部化学和材料科学工作。
关于作者
- 凯特·布伦顿（Kate Brunton）
- 自由作家和编辑
- 凯特（Kate）对讲故事和语言充满热情，并喜欢写关于技术人类方面的文章。万博manbetx官网登录在荷兰的ASML工作了三年后，她现在来自亚利桑那州沙漠。
