EUV光源工程师赢得莱宾国际奖
ASML因其数十年的研究和发展工作而认可，以工业化EUV光刻
6分钟阅读 -Brittney Wolff Zatezalo，2021年10月22日
将极端紫外线（EUV）的商业化是一项长达数十年的挑战，需要不懈的合作，创新和持久性。主要要求之一是在EUV光源中达到足够的功率水平。圣地亚哥的团队以研究与开发工程师的三名 - 丹尼·布朗（Danny Brown），亚历克斯·沙夫格斯（Alex Schafgans）和叶宗陶（Yezheng Tao）为代表。2021年9月24日，团队获得了贝尔托德·莱宾创新奖（InnovationsPreis）。
每两年授予一次享有声望的荣誉，Berthold Leibinger创新奖是一个国际奖项，旨在表彰针对激光光的应用或生成研究和开发工作的卓越奖。该奖项授予了三人，他亲自做出了关键贡献，使赫库尔族人从193 nm跳到13.5 nm波长，但也增加了EUV系统为了实现系统吞吐量，比第一个EUV原型快2500倍。
以前的获奖者包括诺贝尔奖获得者Stefan Hell，他在2002年获得三等奖，Cymer创始人Rick Sandstrom和Cymer CTO Bill Partlo于2008年获得二等奖。今年，Danny，Alex和Tao因其在激光生产的等离子体来源中获得了EUV光刻扫描仪的突破而获得了一等奖，该扫描仪可实现高量化制造。他们还认识到成千上万与他们合作的人在整个终点线上获得这项新技术。万博manbetx官网登录
从左到右：Yezheng Tao，Alex Schafgans和Danny Brown。
令人难忘的高力量之旅
一开始，从小于10瓦的EUV源功率开始以最小的增量来衡量成功。
丹尼（Danny）坐在舵手身上：一位敏锐，严格的技术领袖，经常在实验室里露出笑容，并在他的舌头上开玩笑。丹尼（Danny）从不怀疑他们最终成功地将EUV带给客户的晶圆厂（微芯片制造厂）。
丹尼说：“当安装了第一个原型并且来源和扫描仪工作时，我感到乐观。我们在创新路线图中达到了生产EUV的一个重要里程碑。”
“当然，消息来源只产生了应有的平均力量的第100位。但是至少团队开发了一个解释，并有了明确的基础和前进的道路。从那一刻起，我知道我们会做到这一点。”
Alex完成博士学位六个月后，开始从事EUV计划。他很快意识到，在实践中，EUV的理论与EUV大不相同。
“我记得在euv源原型中工作研发当我们开始应用新的脉冲技术时，实验室。”亚历克斯回忆道。万博manbetx官网登录“我们的团队挣扎了将近一个月，以实现成功的产出，但随后我们终于击中了一个Millijoule（MJ）。我的主管走了出来，说：“你知道，我们必须把它带到五个，对吗？”这相当于我从Basecamp仰望珠穆朗玛峰。”
在那一刻，旅程的整体规模延伸到亚历克斯面前。他不知道他们将如何到达那里，但他相信这条路会令人兴奋。
在整合到EUV光刻机器中之前，来自外部的EUV光源容器。
丹尼分享道：“亚历克斯的技术敏锐度与他的战略能力相结合，使我们有可能深入研究问题的根本原因。”“有了亚历克斯，我们最终能够以关键的解决方案领先。”
在研究方面，Yezheng Tao致力于发展近18年EUV光刻。他能够牢固地掌握EUV背后的科学，再加上强大的职业道德和顽强的动力，推动了他实现技术突破。
丹尼（Danny）亲切地将陶的方法称为“我成功的三个规则的完美典范：永不放弃，永不放弃，永不放弃。”
亚历克斯补充说：“道通常是最不明显的路径，但通常是最正确的。”
“他发现了制作激光产生的等离子体的完全新颖的方法，将自己的知识带到了远远超出普通人直觉的参数的位置。他的贡献对于在通往EUV的道路上达到关键里程碑是无价的，他继续为此增加价值天。”
关键技术突破
一次，EUV计划似乎已经陷入僵局。团队正在竭尽所能，以推动超过200瓦（W）的光源，但似乎无法通过80W。因此，在大约12个月的时间内，他们回到了基础知识以隔离正在工作的基本特征，并确定如何扩展这些要素。
这项工作包括在SIM（种子隔离模块）上收集新数据，该数据向团队展示了正确的路径。这使他们能够增加功率30-40％。“这是圣诞节前夕的前一天，”亚历克斯说。“我们打开了原型，击中了160 W。”
尽管增强力量在一夜之间发生，但实现这一收益的重点和许多小时。第二个突破是在不久之后出现的，当时团队在实验室中建立了产品架构，以展示前脉冲和主脉冲。
“在第一个演示中，我记得在种子桌上拉动基座，看着电源从160 W到200 W以上，” Alex说。“越过这个门槛使我们有信心我们将达到250 W标记 - 似乎一切都已经到位了。”
但是，事实证明，接下来的六个月是最具挑战性和最令人沮丧的时期。据了解，EUV的科学似乎已经达到了目标。但是，这是通过一系列工程调整实现了最终的功率要求水平，这些调整最终使EUV实现了。
瞥见未来
成千上万的公司，大学和个人致力于帮助将EUV光刻推向市场。全球科学家，工程师和其他专家的网络为极端紫外线光刻的集体成功做出了贡献。在2018年，ASML员工Erik Loopstra和Vadim Banine获得了欧洲发明家奖在流行的奖品类别中，由于其在EUV光刻制造业中的关键发明。
丹尼（Danny），亚历克斯（Alex）和陶（Tao）是帮助半导体行业维护摩尔定律的主要推动者，他们的努力得到了该奖项的认可。我们为他们成为ASML进步的一部分而感到自豪。
关于作者
- Brittney Wolff Zatezalo
- 企业传播经理美国
- 布里特尼（Brittney）喜欢了解幕后工作的聪明人并分享他们的故事。她的任务是使技术更容易访问。万博manbetx官网登录她不认为自己可以成为工程师，但希望她的女儿看到潜力。
您想成为进步的一部分吗？
