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ASML为EUV光刻赢得半美洲奖

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ASML为EUV光刻赢得半美洲奖

年长的研发努力,协作方法从工业协会中汲取最高荣誉

由Sander Hofman,2020年7月20日

在2020年版的微电子会议期间Semicon West.,ASML收到了半美洲,以其对极端紫外线光刻(EUV)的协同方法奖,帮助它变得商业上可行,并将门打开到新的技术可能性。


半美洲奖项是半美洲的最高荣誉,并认识到技术发展对半导体产业的重大影响,因此世界。万博manbetx官网登录


ASMLpresident and CTO Martin van den Brink accepted the award via a recorded message during the event, which was held virtually on July 20, 2020. Looking back on some of the key moments in EUV’s history, he said, “After more than 20 years of sustained R&D by ASML and its partners, EUV is now being used in high-volume chip manufacturing. Long-term collaboration across this technology’s value chain, from academic partners to governments and industry players, has been absolutely crucial to its success.”

在20世纪80年代开始延伸超出深层紫外波长的光学光刻的努力。日本的研究人员和美国开创性的“软X射线”研究,并表现出可行性,之后行业协会将EUV研究对下一阶段进行了研究。由其他半导体领导者(如英特尔的EUV LLC)的开拓工作推动 - 与AMD,Micron,Motorola,Infineon和IBM的合作,ASML于2006年提供EUV原型alpha演示工具。


但是,移动到极端的紫外线波长为13.5nm表示真正的范式转换,延伸到光产生,反射光学,真空环境管理,晶片阶段对准和一系列其他领域的所有方面。


只有通过与Chipmakers,研究合作伙伴和战略供应商如蔡司和王牌,ASML的长期和密切合作只能学习到利用EUV灯以用于工业规模芯片制造。结果是NXE:3400B.,该系统在2017年开始发货。现在,在几个主要芯片制造商中最先进的节点中使用,系统促进了将多种产品与EUV的芯片引入2019年消费市场。


“当促进新的和新兴技术来提升半导体行业时,应当认可和尊重优秀的工程和行业成就,”戴夫安德森半美洲主席兼荣誉。“紫外线和浸入式UV光刻的限制为芯片制造商呈现了障碍物,并暂时停止微电子的缩小尺寸。ASML的历史悠久的努力利用供应链支持以及客户买入,表明该行业可以在加入时解决主要问题。“


Martin Van Den Brink同意,突出了Asml的承诺,不仅可以共同努力,而且致力于技术进步。万博manbetx官网登录“这是高度和低点的漫长旅程,”他说。“但一个不变的因素是我们世界各地员工的创造力和奉献精神。未来10年,我们将继续在EUV的生产力,成像和覆盖性能方面看到大量创新。摩尔定律的未来比以往任何时候都更加明亮。“

关于作者

  • 桑德霍夫曼
  • 公司通讯经理
  • 桑德勒喜欢在ASML的数字频道上带来技术,故万博manbetx官网登录事和媒体。他是一天的通讯,一个渴望的编剧在夜晚,纯粹的运气,一个傻瓜。