英特尔和ASML加强了他们在2025年推动High-NA进入制造业的协作

今天，ASML控股N.V.（ASML）和英特尔公司（INTC）宣布了他们长期合作的最新阶段，以提高半导体光刻技术的最前沿。万博manbetx官网登录Intel has issued its first purchase order to ASML for the delivery of the industry’s first TWINSCAN EXE:5200 system – an extreme ultraviolet (EUV) high-volume production system with a high numerical aperture and more than 200 wafers per hour productivity – as part of the two companies’ long-term High-NA collaboration framework.

“英特尔对ASML高NA EUV技术的愿景和早期承诺证明了其对摩尔定律的不懈追求。万博manbetx官网登录与当前的EUV系统相比，我们创新的扩展EUV路线图在降低的复杂性，成本，周期时间和能源方面持续的光刻改进，芯片行业需要在未来十年中推动负担得起的规模。”边缘。

英特尔在7月的加速活动中宣布，它计划部署第一个高NA技术，以实现其晶体管创新的路线图。万博manbetx官网登录英特尔是2018年第一个购买较早的Twinscan Exe：5000系统的人，随着新购买的今天宣布，该协作延续了Intel生产制造业的道路，并于2025年开始使用High-Na EUV。

“英特尔的重点是保持在半导体光刻技术的最前沿，并且在过去的一年中，我们一直在建立EUV的专业知识和能力。万博manbetx官网登录Working closely with ASML, we will harness High-NA EUV’s high-resolution patterning as one of the ways we continue Moore’s Law and maintain our strong history of progression down to the smallest of geometries,” said Dr. Ann Kelleher, executive vice president and general manager of Technology Development at Intel.

EXE平台是EUV技术的进化步骤，包括一种新颖的光学设计和明显更快的标线和晶圆阶段。万博manbetx官网登录Twinscan EXE：5000和EXE：5200系统提供了0.55的数值光圈 - 与以前具有0.33数值光圈镜头的EUV机器的精确度增加，以实现甚至较小的晶体管功能的高分辨率图案。系统的数值光圈与所使用的波长结合确定了最小的可打印功能。

EUV 0.55 NA旨在从2025年开始作为行业的第一次部署，启用多个将来的节点，其次是以相似密度的存储技术。在2021年的投资者日，ASML分享了其EUV路线图，并表示预计High-NA技术将在2025年开始支持生产制造。今天的宣布与此路线图一致。万博manbetx官网登录