KLA-Tencor和ASML共同开发计量数据接口

KLA-TENCOR CORP.（NASDAQ：KLAC）和ASML（NASDAQ：ASML）今天引入了新的分析软件选项，使芯片制造商能够在KLA-Tencor 5000系列叠加层之间自动传输叠加层测试数据，扫描光刻工具。由两家公司共同开发的新计量数据界面包装大大减少了对曝光工具进行定期维护所需的非生产时间，仅几分钟，从而提高了工具生产率和整体设备有效性（OEE）。

ASML美国技术开发中心首席科学家兼负责人比尔·阿诺德（Bill Arnold）说：“最大化半导体设备的使用对于提高整体FAB效率至关重要。”万博manbetx官网登录“计量数据接口的独特功能已在ASML扫描仪和高级逻辑Fab中的KLA-Tencor覆盖测量工具上进行了测试，并帮助该共同客户提高了校准生产率。这两家公司的许多客户都表示强烈兴趣实施实施该公司的兴趣。计量数据界面以提高整体FAB效率和投资回报率。”

缩小的设计规则正在创建更紧密的光刻覆盖预算，进而需要更严格的成像和覆盖控制。光刻曝光工具的常规校准和设置是确保最佳成像和叠加性能的重要组成部分。到目前为止，此活动是在光刻工具上完成的，导致损失有价值的曝光时间。使用新的计量数据接口，可以在KLA-Tencor叠加层计量工具上测量在ASML工具上暴露的叠加测试晶片。测量完成后，接口用于将原始数据重新刷到步进器或扫描仪中。曝光工具将数据转换和建模，以确定是否需要进行任何重新校准或调整。此选项使计量活动可以离线进行，从而腾出了曝光工具继续构图晶圆的时间。

Arnold继续说：“成功地共同开发了计量数据界面，我们的两家公司需要对彼此的工具特征有更深入的了解。”“ KLA-Tencor和ASML之间的合作证明了两个与之合作的行业领导者如何将其核心能力结合在一起，以提供更大的增值产品和服务，以与他们的相互终端客户提供。”

计量数据接口支持所有ASML PAS 5500 200 mm I线，深紫外线（DUV）和193 NM步进器和步进和spep＆Scan系统，并配置了软件版本8.4或更高版本。同样，界面还支持KLA-Tencor的Archer 10和5000系列叠加层计量工具。

“通过与ASML这样的行业领导者合作，我们已经能够利用其领先光刻系统的联合专业知识与我们经过验证的流程控制技术，” KLA-Tencor岩石印刷模块战略营销副总裁Scott Ashkenaz说。万博manbetx官网登录解决方案小组。“这为我们的共同客户创造了一个更全面的解决方案，使他们能够更好地管理和控制其光刻过程，并最大程度地减少其产量损失。”