ASML MaskTools引入了半导体行业的最快仿真工具集

为了帮助光刻工程师和IC设计师在进行生产之前预测其产品的生产性，ASML MaskTools今天推出了Lithocruiser，这是半导体行业的最快模拟工具，用于设计和优化光刻流程。Lithocruiser是基于电路功能的仿真来实时查看光刻过程窗口的第一个产品，该产品使工程师可以优化总成像过程。借助此新工具集，工艺开发和制造集成工程师可以立即评估几乎所有的光掩膜和晶圆成像变量，并比以往任何时候都更快地开发新的深色平纹光刻过程。使用Lithocruiser，设计评估的执行速度要比当前市场上的其他工具要快得多，从而大大减少了新的IC Technologies的“产生时间”和“数量生产时间”。

ASML Masktools总裁道格·马什（Doug Marsh）说：“岩石库的速度为平版印刷工程师提供了新的自由。”“他们现在可以通过在整个过程窗口中以几秒而不是数小时或几天的方式查看整个过程窗口中的模拟晶片结果来评估其电路模式，掩模和成像过程相互作用。这使光刻工程师可以拧紧整个临界维度（CD）分布晶圆，导致每晶片的芯片更高，并且性能更高。”

Lithocruiser的核心是ASML MaskTools和母公司ASML开发的一种新的模拟核心技术。万博manbetx官网登录万博苹果手机客户端Lithocruiser对世界领先的成像模拟器进行了基准测试和校准，在一小部分时间内表现出了出色的成绩。

ASML MaskTools工程副总裁Fung Chen万博manbetx官网登录说：“为了推进低K1技术，我们开发了该行业最快的模拟算法，以动态计算晶状体像差组件，同时采用强大的几何操纵能力。”

岩石司令允许工程师查看大型现实世界电路设计数据，设计中的剪辑片段，通过各种光学接近校正（OPC）处理数据，指定蒙版层以及类型，例如二进制和/或相位，并立即模拟和评估晶圆上产生图像的光刻打印性能。然后，工程师可以对两个掩码设计进行实时修改 -诸如OPC处理策略和扫描仪变量（例如散焦，暴露，晶状体异常，数值和照明）等变量，以快速优化成像过程。此外，Lithocruiser允许用户在电路设计布局的任何点上放置任意切割线，并获取有关过程窗口性能焦点曝光和重叠过程窗口图的瞬时统计信息。该功能使工程师可以快速识别和解决设计，掩盖和流程问题。最终的优化电路设计可以作为MEBES或HITACHI蒙版制作文件输出。这使光掩模设计师能够预测其设计或硅的图像特征，并评估新的面膜制造技术的打印方式。

马什说：“我们正在弥合全球IC行业的设计和制造之间的差距。”“岩石库是一种基石产品，在技术开发路径中满足了至关重要的需求。它可以更快地找到更好的光学扩展解决方案。”万博manbetx官网登录

Lithocruiser将于今年第二季度提供。