ASML引入了新的KRF步骤和扫描系统

在120 nm分辨率及以后的量生产应用中扩展了成熟的，具有成本效益的KRF（248 nm波长）光刻，ASML今天推出了其最新的Deep Step＆Scan系统，即PAS 5500/800。该系统通过行业领先的数值孔径（NA）为0.80实现120 nm的分辨率。该产品的吞吐量为每小时115毫米晶片，设计用于当今最先进的ICS以及下一代产品的研发应用。

PAS 5500/800步骤和扫描系统包含了来自ASML的光学合作伙伴Carl Zeiss的新Starlith 800镜头。在ASML独特的Advanced Aertia II Iluminator设计上，将提供先进的照明选项，并提供更大的灵活性，以增加对图案特定应用的对比度，因为该行业迁移到生产中的低K1成像。PAS 5500/800的镜头设计通过较低的畸变进行了改进，使ASML的客户能够缩小IC设计规则，并利用他们在KRF制造技术方面的经验。万博manbetx官网登录

ASML市场营销和技术执行副总裁Martin Van Brink表示：“新的PAS 5500/800系统通过使用成熟的光吸师和流程来延长现有KRF技术的寿命，从而提高了我们的领先客户的竞争优势和盈利能力。”万博manbetx官网登录“这种新产品的多功能性使其成为当今可用的最具成本效益和高性能成像系统之一。”

该系统采用ASML专利的Athena晶圆对准系统，并结合使用光化波长（标线蓝色对准）的标线对齐，使单台计算机中的20 nm和30 nm的行业叠加精度从机器到机器到机器，使行业能够覆盖精度。此外，一个新的晶圆级系统大大提高了平稳过程的纬度，从而导致了焦点的改善。使用ASML稳定的PAS 5500系统体系结构，新产品很容易与客户当前安装的ASML Deep UV和I线设备兼容。实际上，PAS 5500/800与PAS 5500/400C I线扫描仪无缝匹配，该扫描仪通过使用混合和匹配制造策略进一步提高了成本效率。新PAS 5500/800系统的首批生产单元计划于2001年6月开始运输。