ASML从主要的IC Maker购买多个系统购买日本市场

ASML已进入日本半导体光刻系统市场，并向主要的日本半导体制造商出售了多个深紫外线和I-Line STEP＆SCAN工具。在对高级成像工具进行了广泛评估之后，客户下了ASML的PAS 5500/750ETM深紫外线和PAS 5500/400CTM I线扫描仪的订单。光刻系统将用于逻辑和内存设备的音量生产。安装从今年12月开始。ASML的销售代理Nissei Sangyo将与ASML在东京的总部为日本客户提供现场支持。

ASML亚洲销售副总裁Don Crabtree表示：“我们很高兴和荣幸地宣布日本客户的一项订单。”“ ASML在我们的营销活动初期认识到该市场的需求与其他市场有很大不同。我们已经在多年来建立基础设施和知识，以准备进入市场，并提供那里的客户期望的高水平支持。”

PAS 5500/750E是第一个针对具有130nm设计规则的ICS生产优化的KRF（248 nm波长）光刻系统。该步骤和扫描工具具有深紫外线镜头，具有无与伦比的数值光圈（0.70），该行业最高的部分连贯性（0.88），小于30 nm的最紧密覆盖层，无与伦比的吞吐量为120 200毫米WAFER。PAS 5500/400C是行业的第一个I线步骤和扫描系统，能够处理每小时超过114 200毫米的晶圆。该系统指定的分辨率降至280 nm，可与ASML的Deep UV步骤和扫描系统一起使用，以提供具有成本效益的混合和匹配解决方案，以解决较少关键的设备功能。