ASML MaskTools，指导图形到桥梁半导体光刻屏障

签署的联合营销协议

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新闻稿 -加利福尼亚州圣克拉拉，1999年12月9日

为了消除半导体设计和子波长度制造之间的差距，ASML MaskTools是ASML的全资子公司，以及Mentor Graphics Corporation（NASDAQ：MENT）签署了协作协议。该协议结合了成像设备，软件和高级流程中的专业知识，以创建一个总体集成过程解决方案 - 现在需要在子波长的几何形状上获得成功的硅成功 - 使半导体客户能够加速其深层的sibsicron技术路线图和芯片收益。万博manbetx官网登录它还标志着高级成像解决方案提供商ASML与领先的电子设计自动化（EDA）公司Mentor Graphics之间的第一个协议。万博苹果手机客户端

如今，随着IC几何形状在0.13微米及以后的光波长低于一半以下时，全芯片的制造性验证和光学扩展技术现在已成为半导体生产中关键的成分，以实现可接受的芯片收益率。需要光学延伸技术，例如光学接近度校正（OPC），相移面膜（PSM），散射棒和外轴照明，才能将光刻光刻扩展到先前被认为是下一代闪光造影的领域。Mentor图形，MaskTools和ASML将通过利用其专业知识领域的多个光学过程扩展来满足全芯片制造性验证的需求。ASML带来了其知识产权，高级成像系统，研究设施和多年的硅制造能力经验完善散射棒技术。

Mentor图形将其Calibre工具套件（用于物理验证和制造性的行业标准）带来了其口径OPCPRO，Calibre PSMGATE及其硅与布局验证工具，口径兽人和口径印刷机。两家公司共同使用优势，将提供最快的，准确的全芯片建模和制造工艺的校正，包括掩模生产，高级成像以及抵抗和蚀刻效果的影响。

ASML Masktools总裁道格·马什（Doug Marsh）表示：“有了这个联盟，我们不仅延长了光刻的寿命，而且还在创建一个新的市场 - 制造性验证市场。”“这个市场包括EDA世界和半导体制造业务中的大多数客户。共同，ASML MaskTools和Mentor Graphics为当今的光学和明天的下一代光刻提供了总体生产性解决方案。”

“通过将ASML的高级制造专业知识与OPC和PSM的Caliber深入整合的物理验证和次波长的制造技术相结合，” Mentor的身体和静态验证部总经理Brian Derrick说，我们的联盟提供了该行业最先进，最简单的，最容易，最容易使用IC布局来硅验证可制造性流量。我们期待与他们的美国技术开发中心的ASML合作，通过光吸师，口罩，照明源和镜头设计优化我们的软件，以为我们的共同客户提供完整的生产性解决方案。”万博manbetx官网登录

关于导师图形

Mentor Graphics Corporation是电子硬件和软件设计解决方案的全球领导者，为世界上最大的电子和半导体公司提供产品和咨询服务。该公司成立于1981年，在过去的12个月中报告了5万博苹果手机客户端亿美元的收入，全球约有2600名员工。万博苹果手机客户端公司总部位于8005 S.W.俄勒冈州威尔逊维尔的Boeckman Road 97070-7777。网站：www.mentor.com。

manbext手机官网关于ASML面具

ASML MaskTools，Inc。是一家新成立的ASML公司，位于加利福尼亚州的圣克万博苹果手机客户端拉拉。该公司专万博苹果手机客户端注于提供一系列光学扩展技术来增强光刻过程的纬度，从而提高了制造业的IC收益率。光延伸技术已成为必不可少的，因为光刻继续用于曝光光源波长以下的体积制造。MaskTools和Maskrigger是ASML的商标。

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ASM光刻成立于1984年，是高级光刻系统的世界领导者，这对于制造现代综合电路至关重要。ASML在阿姆斯特丹交易所和纳斯达克股票市场上公开交易。访问公司的网站万博苹果手机客户端www.porsat.com想要查询更多的信息。

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