工作在光学的边缘可能是什么。
想象完善光学系统畸变都保持在一千使用的波长的光。
在这个光学系统,200公斤反射镜需要定位在一个不到一个纳米的准确性,然后重新定位每一秒来弥补millikelvin波动。
光学光路在EUV机器
看看我们极端紫外线的内部运作(EUV)光刻机你遵循完整的光路径从源晶片。
生成的EUV光源,发送到控制光束的照明,和芯片的面具反射模式之前集中在硅片的投影光学和暴露。
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生成的EUV光源,发送到控制光束的照明,和芯片的面具反射模式之前集中在硅片的投影光学和暴露。
