ASML赢得EUV光刻奖

在2020年的微电子会议上半西半，ASML因其极端紫外线光刻（EUV）的协作方法而获得了半美洲奖，帮助其在商业上可行，并为新技术可能性打开大门。

Semi Americas Award是半美洲颁发的最高荣誉，并认可对半导体行业以及因此世界上产生重大影响的技术发展。万博manbetx官网登录

ASMLpresident and CTO Martin van den Brink accepted the award via a recorded message during the event, which was held virtually on July 20, 2020. Looking back on some of the key moments in EUV’s history, he said, “After more than 20 years of sustained R&D by ASML and its partners, EUV is now being used in high-volume chip manufacturing. Long-term collaboration across this technology’s value chain, from academic partners to governments and industry players, has been absolutely crucial to its success.”

将光刻范围扩展到深层紫外线波长之外的努力始于1980年代。日本和美国的研究人员开创了“软X射线”研究，并展示了其可行性，此后行业协会将EUV研究带入了下一阶段。由其他半导体领导者（例如英特尔的EUV LLC）所做的开创性工作 - 与AMD，Micron，Motorola，Infineon和IBM的合作，ASML在2006年交付了EUV原型Alpha演示工具。

但是，转移到13.5 nm的极端紫外线波长代表了真正的范式转移，扩展到光生发电，反射光学，真空环境管理，晶圆阶段对准和许多其他领域的各个方面。

仅通过与芯片制造商，研究合作伙伴和诸如Zeiss和Trumpf之类的战略供应商的长期和密切合作，ASML学会了利用EUV Light进行工业规模的芯片制造。结果是NXE：3400B该系统从2017年开始运输。现在在几个主要芯片制造商的最先进的节点中使用，该系统促进了2019年将具有EUV芯片的多种产品引入了带有EUV芯片的多种产品。

Semi Americas总裁Dave Anderson说：“当杰出的工程和行业成就促使新兴技术增强了半导体行业时，应认可和荣幸。”“紫外线和浸入紫外线光刻的局限性为芯片制造商带来了障碍，并暂时停止了微电子的缩减。ASML多年来的努力吸引了供应链的支持以及客户的买入，这表明该行业可以在加入时解决主要问题。”

马丁·范·丹·布林克（Martin van den Brink）表示同意，强调了ASML不仅致力于共同努力，而且对技术的进步。万博manbetx官网登录他说：“这是高潮和低点的漫长旅程。”“但是不断的因素是我们全球员工的创造力和奉献精神。在接下来的10年中，我们将继续看到EUV的生产力，成像和覆盖性能的实质性创新。摩尔法律的未来比以往任何时候都更加光明。”