光刻原理
光刻的基础知识,这是芯片制造过程中的关键步骤
微芯片是通过在硅晶片上逐层建立复杂的晶体管图案来制作的。ASML的光刻系统是该过程的核心。
光刻(更正式地称为“光刻”)系统本质上是一个投影系统。光线通过将要打印的图案的蓝图(称为“面具”或“标线”)投射出来。
随着图案在光线下编码,系统的光学器件收缩并将图案聚焦到光敏的硅晶圆上。打印图案后,系统将稍微移动晶片,并在晶圆上制作另一个副本。
光刻的基础知识,这是芯片制造过程中的关键步骤
微芯片是通过在硅晶片上逐层建立复杂的晶体管图案来制作的。ASML的光刻系统是该过程的核心。
光刻(更正式地称为“光刻”)系统本质上是一个投影系统。光线通过将要打印的图案的蓝图(称为“面具”或“标线”)投射出来。
随着图案在光线下编码,系统的光学器件收缩并将图案聚焦到光敏的硅晶圆上。打印图案后,系统将稍微移动晶片,并在晶圆上制作另一个副本。