斯蒂芬hsu
从光刻扫描仪中获得最佳成像
“我们面临的每一次危机也为机会提供了机会。这取决于我们如何调查所涉及的问题并尝试提出解决方案。”
Stephen Hsu已为ASML客户使用的计算光刻软件软件做出了重大贡献，以从其DUV和EUV扫描仪中获得最佳成像。
多年来，史蒂芬（Stephen）为解决方案增强技术（RET），源掩盖优化（SMO）以及光学接近校正（OPC）做出了贡献。他还在ASML和SPIE的外部在内部教授一门高级光刻课程，并在SPIE上教导初级工程师。
从光刻扫描仪中获得最佳成像
“我们面临的每一次危机也为机会提供了机会。这取决于我们如何调查所涉及的问题并尝试提出解决方案。”
Stephen Hsu已为ASML客户使用的计算光刻软件软件做出了重大贡献，以从其DUV和EUV扫描仪中获得最佳成像。
多年来，史蒂芬（Stephen）为解决方案增强技术（RET），源掩盖优化（SMO）以及光学接近校正（OPC）做出了贡献。他还在ASML和SPIE的外部在内部教授一门高级光刻课程，并在SPIE上教导初级工程师。
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