莱昂·莱瓦西尔(Leon Levasier),ASML的研究员

莱昂·莱瓦西尔(Leon Levasier)

未来范围的ASML的产品路线图,专注于客户需求

“成为EUV故事的一部分是一种荣幸 - 这是一项真正宏伟的合作努力。在我看来,我们的EUV系统是当今世界上最复杂的机器。”

莱昂·莱瓦西尔(Leon Levasier)在ASML内外受到赞赏,作为一名覆盖专家,为实现光刻系统的覆盖路线图做出了重大贡献。


Leon的系统知识和提出实用解决方案的能力的结合使他能够作为整体光刻扫描仪设计专家的覆盖路线图产生影响。

认识莱昂
  • 自1997年以来的ASML员工

  • 在2011年被任命为一个家伙

  • 基于Veldhoven, 荷兰人


关键贡献

专业知识

系统(覆盖)性能影响扫描仪系统设计以及通过广泛了解扫描仪模块和设计的公差


专利

在21个ASML专利家庭中持有23家美国专利