HMI EP5
我们最高的分辨率电子束系统提供了关键的维度计量和芯片开发和生产监测的缺陷检测。
1 nm
像素大小
12k x 12k
视场(像素)
≤0.1nm
CD计量精度
≤5nm
缺陷检测能力
关键功能和好处
迄今为止,我们最高分辨率的电子梁系统,EP5在高吞吐量下提供了关键维度(CD)计量和缺陷检测。
EP5与R&D实验室中的FAB中的家园一样,使芯片制造商可以监视生产中的过程性能并验证开发中的光学接近校正模型(OPC)。
01.多功能性
EP5将精确的CD计量学与一个系统中的高分辨率缺陷检测结合在一起。对于晶圆检查,它可以在物理缺陷和电压对比度模式下进行操作,以检测图案和电缺陷。
02.灵敏度
EP5具有1 nm像素大小,是我们最高分辨率的电子束系统。它能够以0.05 nm的测量灵敏度检测到5 nm的缺陷,并达到<0.1 nm cd的精度。它提供行业领先的自动缺陷分类(ADC),而我们的模具数据库(D2DB)功能使用设计信息来进一步提高缺陷敏感性和分类。
03.吞吐量
一个大的(12,000 x 12,000像素)视场可实现高扫描吞吐量。此外,EP5可以同时进行CD计量和晶圆检查,以最大程度地提高生产率。
图案保真度计量选项
EP5上可用的模式保真度计量选项使芯片制造商可以在更大的吞吐量下利用E型束溶液的超细分辨率来监视高量生产过程。
该选项从各种来源中汲取数据,包括我们的Twinscan光刻系统,我们的光学产量和计算计量系统以及EP5本身以及我们的计算光刻解决方案和非ASML设备。
然后,它分析了这些数据,以识别最可能的缺陷的热点,并使用此洞察力指导和优化EP5中的扫描策略。这使芯片制造商能够最大程度地提高检查吞吐量,同时仍检测到限制屈服缺陷。