ASML Twinscan NXE:3400B EUV光刻机器

Twinscan NXE:3400B

ASML的Twinscan NXE:3400B支持7和5 nm节点的EUV量产生。

13.5 nm

EUV光波长

13 nm

解析度

0.33 Na

投影光学

≥125

每小时晶圆

关键功能和好处

Twinscan NXE:3400B支持7和5 nm节点的EUV量产生。

NXE:3400B结合了生产率,出色的图像分辨率,与EUV NXE和ARFI NXT工具和焦点性能相匹配,并提供了与ASML ARFI技术相辅相成的光刻功能。万博manbetx官网登录

01.生产力

在以下条件下,NXE:3400B的300 mm晶圆吞吐量目标规范大于或等于每小时125瓦夫:剂量:20mj/cm2,模具大小:26 x 33毫米,96张射击。


02.光学

Twinscan NXE:3400B步骤和扫描系统包括ZEISS 4X降低EUV EUV光学器件,数值(NA)为0.33,最大扫描曝光场大小为26 x 33 mm。

NXE:3400B照明旨在扩展离轴照明成像功能,并具有高级自由式瞳孔成型,可在最佳生产率下进行低k1成像。此外,工作范围的Sigma从0.2 - 0.9至0.06 - 1.0增加,以最佳使用投影透镜成像功能。


03.成像性能

NXE:3400B可以实现1.4 nm的专用Chuck覆盖层和2 nm的匹配机器叠加层。覆盖精度是在整个场上和整个晶圆上测量的。

晶圆比对在测量位置发生,并使用ASML验证的相位光栅比对技术使用SMASH对齐传感器进行目标检测。

NXE:3400B基于紫外线源,与其前身NXE:3350b结合了相同的级别传感器,该传感器可从晶圆膜堆栈变体中降低高度过程依赖性。