物理学是我们在ASML所做的一切的核心。
物理学会遇到机电一体化
使用模型和算法来控制测量和暴露我们光刻计算机内的晶圆时发生的物理效果
在ASML光刻机器中,晶圆阶段同时移动两个晶圆桌子,每个桌子都有一个硅晶圆。当一种晶圆暴露时,另一个晶圆的位置是由机器的计量传感器测量的,从而节省了时间并增加了产量。这种双阶段系统体系结构称为Twinscan。
这同步运动在晶圆阶段,标线阶段(包含要在芯片上打印的图案的蓝图)和光学元件会产生许多物理效应,以维持机器的纳米精度和高生产率。
为此,我们的物理学家开发了物理模型和经验算法,这些算法描述了我们的光刻机器内部发生的事情,并为不需要的身体效应执行更正。
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热膨胀和覆盖
微芯片是通过在硅晶片上建立相互联系的图案层制成的。将晶圆暴露于紫外线上会在晶圆表面的光敏材料薄层中产生所需的光化学反应,但也会加热晶圆。这种热负载可以在层上局部扩展材料,如果下一层暴露期间的热条件是不同的,则两层不会正确地对齐,并且芯片不起作用。
物理救援
我们开发了描述和纠正这种热膨胀的物理模型。他们考虑了诸如光的波长之类的因素,标线(或口罩),击中晶片的光子数量和硅的材料特性以及相应的时间依赖性传热。模型还必须考虑晶圆的环境 - 包括我们的真空EUV机器和空气,在“浸入”光刻的情况下,镜头和晶圆之间加了一层水DUV机器。
建立并校准了物理模型后,我们可以通过修改晶圆阶段,标线阶段和光学的运动来准确预测加热和纠正效果。
与魔术无法区分
在这个故事中,三位物理学家描述了开发突破性技术(EUV颗粒)的感觉,这些技术与芯片制造中的模式缺陷作斗争。万博manbetx官网登录
“为了能够以纳米量表生产模式,我每天都与来自各种技术领域的工程师和许多不同的物理原理一起工作。了解我们的机器并结合所有这些不同的专业领域是迄今为止最多的。我的工作中充满挑战。”
-Lisanne Coenen,系统工程师,应用物理学硕士