光学工程工作

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在光学方面可能的边缘工作。

想象一下,完善一个光学系统,在该光学系统中,将畸变保持在所用光的波长的一千分之一之内。

在这个光学系统中,需要将200千克反射器定位在小于纳米表的精度内,然后每秒重新定位以补偿Millikelvin的波动。

EUV机器内的光学路径

当您遵循从源到晶圆的完整灯路径时,请查看我们极端紫外线(EUV)光刻机器的内部工作。


在EUV源中生成光,发送到控制光束的照明器中,并用芯片图案从面膜上反射,然后将其聚焦于投影光学元件并暴露硅晶片。